[9a-W323-1~12] 6.4 Thin films and New materials

[9a-W323-4] TiO₂ thin films prepared with a non-equilibrium plasma induced in a liquid phase

〇Shinji Mayumi¹, Jumpei Sagisaka¹, Rysuke Okumura¹, Masayuki Okuya¹ (1.Shizuoka Univ.)

Keywords:dielectric barrier discharge, nonequilibrium plasma, TiO2

本研究グループでは、これまでに大気圧における非平衡二次元プラズマを利用した金属酸 化物の製膜を行っている。最近 8 では、液相中 に生じた微小空洞内にプラズマを閉じ込める 新規製膜法により、前駆体の分解反応に有効な プラズマ活性種の失活を防ぎ、TiO₂の製膜を報 告した 。しかし、この製膜法に用いていたプラズマ発生用電極はグリッドパターンの微細 な制御が難しく、微小空洞内のプラズマを有効 に利用することが出来なかった。そこで本研究において、観光基盤を利用したレジストにより電極を作製するとともに、装置構成を再検討し、これをTiO₂の製膜に利用した。