2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[9p-M113-1~8] 6.2 カーボン系薄膜

2019年3月9日(土) 13:30 〜 15:30 M113 (H113)

神田 一浩(兵庫県立大)

13:45 〜 14:00

[9p-M113-2] 軟X線発光分光および高輝度赤外分光を用いたアモルファス窒化炭素薄膜の化学結合状態評価

青野 祐美1、岸村 浩明2、石井 信伍3、佐藤 庸平3、寺内 正己3 (1.鹿児島大工、2.防衛大材料、3.東北大多元研)

キーワード:アモルファス窒化炭素、薄膜、分光

光誘起変形を生ずるアモルファス窒化炭素薄膜の化学結合状態は、均一ではないことが分かってきた。本研究では、高輝度フーリエ変換赤外分光法および軟X線発光分光のマッピング測定結果を比較し、化学結合状態の不均一性について調べた。また、光照射下における一時的な化学結合を調べるため、可視光照射下で同様の実験を行った。