[9p-M113-1~8] 6.2 カーボン系薄膜

[9p-M113-6] プラズマ利用イオン注入法により作製したa-C:H膜の微細構造への負パルス電圧の影響

〇中尾 節男¹、崔 埈豪²、園田 勉¹ (1.産総研、2.東大工)

キーワード：ダイヤモンド状炭素膜、プラズマ利用イオン注入法、ラマン分光

本報告では、炭化水素ガスとしてアセチレン(C2H2)を用い、バイポーラ型PBII装置によりa-C:H膜を作製し、主に負パルス電圧と微細構造との関連を調べた。膜の微細構造の変化はラマン分光法により評価した。また、水素含有量もラマンスペクトルから見積もった。機械特性の変化はナノインデンターにより評価した。