2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[9p-M114-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年3月9日(土) 13:15 〜 15:45 M114 (H114)

長 康雄(東北大)、葉 文昌(島根大)

15:30 〜 15:45

[9p-M114-10] ラマン分光法を用いたプラズマCVD堆積SiNおよびa-C膜の応力評価

〇小原田 賢聖1、横川 凌1,2、小椋 厚志1 (1.明治大理工、2.学振特別研究員 DC)

キーワード：ラマン分光法