2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[9p-M114-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年3月9日(土) 13:15 〜 15:45 M114 (H114)

長 康雄(東北大)、葉 文昌(島根大)

14:15 〜 14:30

[9p-M114-5] 高調波∂C/∂z-SNDM信号を用いた半導体キャリア分布観察

平永 良臣1、長 康雄1 (1.東北大通研)

キーワード:プローブ顕微鏡、半導体、キャリア分布