[9p-PB1-1~80] 10 Spintronics and Magnetics (Poster)

[9p-PB1-3] Fabrication of Weyl Semimetal Heusler Alloy Co₂TiSi Epitaxial Films

〇(M1)Min Liu¹, Mikihiko Oogane¹, Masakiyo Tsunoda¹, Yasuo Ando¹ (1.Tohoku Univ.)

Keywords:Heusler magnetic material, Weyl semimetal, anomalous Hall effect

Co₂TiSiはハーフメタルで、かつ、ワイルセミメタルであることから大きな異常ホール効果を示す可能性がある。本研究では、Co₂TiSiに着目し、エピタキシャル薄膜試料を作製するための成膜条件の最適化を行った。結果としては、圧力0.15 Paとポストアニール温度T_a = 700℃の条件でCo₂TiSiのL2_１構造に起因するピークを観測し、また、MgO基板上にエピタキシャル成長していることを確認した。そして、低温でバルク値（213 emu/cc）に近い飽和磁化の値を確認した。