2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[9p-S011-1~13] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:15 S011 (南講義棟)

浦岡 行治(奈良先端大)、大島 孝仁(佐賀大)

14:15 〜 14:30

[9p-S011-3] 結晶性IGZO膜の構造解析と電気特性

生内 俊光1、保坂 泰靖1、岡崎 健一1、山﨑 舜平1 (1.半エネ研)

キーワード:酸化物半導体、IGZO、ナノクリスタル

これまでにスパッタで作製したIGZO膜に対して極微電子線回折(Nano Beam Electron Diffraction:NBED)分析を行うと少なくともナノメートルオーダーの結晶が認められることを報告している。今回、IGZO成膜条件を変えたときの結晶性の評価をNBED分析により行った。その結果、成膜条件によってNBEDの回折パターンのスポットに違いが認められた。当日は成膜条件を変化させたIGZO膜の結晶性とFET特性について報告する。