2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[9p-S011-1~13] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:15 S011 (南講義棟)

浦岡 行治(奈良先端大)、大島 孝仁(佐賀大)

14:45 〜 15:00

[9p-S011-5] (001) β-Ga2O3基板上に形成したNiO薄膜の結晶配向性

中込 真二1、安田 隆1、國分 義弘1 (1.石巻専修大理工)

キーワード:酸化ニッケル、酸化ガリウム

(001)面β-Ga2O3基板上に形成したNiO薄膜の結晶配向について検討した結果、我々が以前調べた(100), (010), (-201)基板上と同様に、 NiO (100)‖β-Ga2O3 (100)かつNiO [011]‖β-Ga2O3 [001]の関係を保って成長することがわかった。