[9p-S011-1~13] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

▲ [9p-S011-7] Growth of Tin Oxide Film with Buffer Layer on Sapphire Substrate by Mist Chemical Vapor Deposition

〇Thant Zin Win¹、Takumi Furukawa¹、Yudai Tanaka¹、Koshi Okita¹、Koji Sue²、Zenji Yatabe^1,3、Yusui Nakamura^1,4,5 (1.GSST, Kumamoto Univ.、2.Fac. of Eng., Kumamoto Univ.、3.POIE, Kumamoto Univ.、4.FAST, Kumamoto Univ.、5.Kumamoto Phoenics)

キーワード：SnO2, buffer layer, mist-CVD