2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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13 半導体 » 13.5 デバイス/配線/集積化技術

[9p-S221-1~15] 13.5 デバイス/配線/集積化技術

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:45 S221 (S221)

井田 次郎(金沢工大)、田岡 紀之(産総研)

15:00 〜 15:15

[9p-S221-6] Steep Slope (<60mV/dec) and Hysteresis Characteristics in Junctionless SOI Transistors
at Low Drain Voltage of 50mV

〇(D)Minju Ahn1、Kiyoshi Takeuchi1、Takuya Saraya1、Masaharu Kobayashi1、Toshiro Hiramoto1 (1.Institute of Industrial Science, University of Tokyo)

キーワード:Junctionless, Steep subthreshold slope

In this paper, we report steep subthreshold slope (SS) below 60mV/dec in junctionless SOI transistor at low drain voltage of 50mV, where the impact ionization (II) is negligible. The relationships among SS, drain voltage, hysteresis and scanning speed are shown and the origin of steep SS is discussed.