2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-S223-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:00 S223 (S223)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

13:45 〜 14:00

[9p-S223-1] マスクレス内面リソグラフィ用大パターン露光光学系の検討

堀内 敏行1、秋谷 甲輔1、今橋 和巳1、鈴木 佑汰1、岩崎 順哉1、柳田 明1、小林 宏史1 (1.東京電機大)

キーワード:内面露光、光ファイバアレイ、テーパコンデュィット

内径10mm、長さ300mmの管内面に線幅300µm程度のパターンを形成する露光光学系を検討した。先端を500µm角に成形したプラスチック光ファイバを並べたアレイをテーパコンデュイットに接して配置して1/2.25に縮小した。さらに、出口端の前方に凸レンズと45°ミラーを置いてパターン像を管内面に作る構成とした。光ファイバ1本を用い、管位置に置いたウエハ上に線幅約300µmのパターンを形成できた。