[9p-S223-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-S223-3] EUVリソグラフィにおけるレジスト露光・現像過程のモデリング

〇佐々木 明¹、石野 雅彦¹、錦野 将元¹、前川 康成¹ (1.量研)

キーワード：EUVリソグラフィ、フォトレジスト、モデリング

EUVリソグラフィ用レジストの感度、解像度の向上のため、露光・現像のモデリング、シミュレーションを試みている。パーコレーション モデルにより、金属ナノ粒子レジストの露光過程の解析を行い、実験的に得られているコントラストカーブとの比較を行い、パターン形成がパーコレーション 現象の特徴を持つことを示す。DLA(Diffusion Limited Aggregation)モデルを用い、露光によって形成した潜像からパターンが形成される過程についても解析する。