[9p-S223-1~12] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[9p-S223-7] Graphoepitaxy of lamellar-forming block copolymers by coarse-grained molecular dynamics simulations

〇Toru Yamaguchi¹, Hirotaka Tanaka¹, Akira Fujiwara¹ (1.NTT BRL)

Keywords:lithography, self-assembly, block copolymers

ラメラ相が発現可能な最も小さいA₂B₂のバネ粒子モデルを用いて、トレンチ構造中での垂直ラメラ相のグラフォエピタキシ成長に関して粗視化分子動力学シミュレーションを行った。ドメイン界面ラフネスについて、実パターンの測定値とほぼ合致した。A₂B₂のような極端に粗視化したモデルでもラフネス発生の考察に適用でできることが示唆される。