[9p-W323-1~17] 8.1 Plasma production and diagnostics

[9p-W323-12] 【Highlight】Development of a sheath electric field measurement method using an optically trapped fine particle in Ar plasma

〇Kentarou Tomita¹, Hiroshi Ohtomo², Kunihiro Kamataki², Naho Itagaki², Kazunori Koga², Masaharu Shiratani² (1.IGSES, Kyushu Univ., 2.Kyushu Univ.)

Keywords:plasma, electric field, optical trapping

シース近傍の電界強度分布はプラズマプロセス制御の重要パラメータである。非侵襲な電界計測はレーザー分光法を用いたものがよく知られている。一方でプラズマ中の微粒子は負に帯電し、シース近傍で静電力により浮遊することから、微粒子挙動を電界計測へ応用することも行われている。本発表では光捕捉した単一微粒子をプローブとした、シース近傍の新しい電界計測手法確立に向けた実験的取り組みについて報告する。