[9p-W611-1~8] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

△ [9p-W611-5] Evaluation of the damage on the suvstrate induced by sputtering deposition of transparent conducitve oxide film

〇Tappei Nishihara¹, Takefumi Kamioka¹, Hiroki Kanai¹, Yoshio Ohshita², Toshiro Okawa³, Atsuhi Ogura¹ (1.Meiji Univ., 2.Toyota Tech. Inst., 3.Scienta Omicron)

Keywords:Si solar cell, TCO, XPS

ヘテロ接合型Si 太陽電池では、Si 基板で生成されたキャリアを効率的に電極へ輸送するために、透明導電膜(TCO)を電極下に挿入するが、TCO 堆積の際の下地へのダメージが懸念される。本研究では異なる手法でTCO をSi 基板上に直接堆積し、その界面を詳細に評価することで、TCO 堆積によるダメージの評価を試みた。評価手法として、X線光電子分光法を使用した。