[9p-W611-1~8] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[9p-W611-8] Evaluation of p-type hydrogenated nanocrystalline silicon deposited by VHF-PECVD for application to silicon heterojunction solar cells

〇(P)Hiroshi Umishio¹, Pei-Ling Chen¹, Takuya Matsui¹, Hitoshi Sai¹, Koji Matsubara¹ (1.AIST)

Keywords:Silicon heterojunction solar cells, nanocrystalline silicon, VHF-PECVD

シリコンヘテロ接合(SHJ)太陽電池の高効率化を妨げる問題としてa-Si:H窓層の寄生吸収ロスが存在するが、その抑制手法としてナノ結晶シリコン(nc-Si:H)の利用が挙げられる。本研究では、SHJ太陽電池窓層への応用に向けたp型nc-Si:Hの高品質化を目指し、very-high-frequency plasma-enhanced chemical-vapor-deposition (VHF-PECVD)を用いたnc-Si:H成膜について検討を行った。また、nc-Si:Hの膜特性の調査のため、ラマン散乱分光法を用いてnc-Si:H薄膜の結晶性を評価し、加えて、SHJセルを作製してI-V特性を評価した。