梶田舜平

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発表者・著者、共著者

2020年9月9日(水) 13:00 〜 14:30 Z25

一般セッション(口頭講演)
| 7 ビーム応用
| 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[9p-Z25-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

13:30 〜 13:45

[9p-Z25-3] グリセリンを添加したレジスト現像液のノボラック系ポジ型レジストの溶解性への影響

〇梶田舜平¹、宮路由紀子¹、堀邊英夫² (1.阪本薬品、2.大阪市大)