14:30 〜 14:45 [8p-Z18-7] 熱電出力因子増大に向けたエピタキシャルCoSi2ナノドット含有SiGe薄膜の開発 〇細田 凌矢1、水田 光星1、石部 貴史1、Md. Mahfuz Alam2、澤野 憲太郎2、中村 芳明1 (1.阪大院基礎工、2.東京都市大総研)