11:15 〜 11:30 [10a-Z20-9] W添加In2O3薄膜における高ホール移動度の起源 〇古林 寛1、前原 誠2、酒見 俊之2、北見 尚久1,2、山本 哲也1 (1.高知工科大総研、2.住友重機械工業(株))