一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
09:00 〜 09:15
〇(M1)勝海 正隆1、樋口 千夏1、粕谷 遥平1、上滝 尚子1、赤坂 哲也1 (1.明星大理工)
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09:15 〜 09:30
〇伊藤 大智1、森谷 裕太1、菊池 昭彦1,2,3 (1.上智大・理工、2.上智大フォトニクス研究センター、3.上智大半導体研究所)
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09:30 〜 09:45
〇新田 悠汰1、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京工繊大)
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09:45 〜 10:00
〇(M1)加悦 港人1、須田 潤1 (1.中京大工)
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10:00 〜 10:15
〇大峠 開星1、葉 文昌1、小林 伸彦2 (1.島根大、2.カリフォルニア大サンタクルーズ校)
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10:15 〜 10:30
〇(M2)沈 昊哉1、今関 裕貴1、佐藤 正寛2、藤井 克司3、嶺岸 耕2、中野 義昭1、杉山 正和2 (1.東大院工、2.東大先端研、3.理研)
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10:45 〜 11:00
〇安田 隆1、白嶋 賢仁1、壹岐 智行1 (1.石専大理工)
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11:00 〜 11:15
〇西本 啓介1、杉山 睦1,2 (1.東理大 理工、2.東理大 総研)
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11:15 〜 11:30
〇古林 寛1、前原 誠2、酒見 俊之2、北見 尚久1,2、山本 哲也1 (1.高知工科大総研、2.住友重機械工業(株))
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11:30 〜 11:45
〇熊谷 敏宏1、大浦 紀頼1、和田 英男1、小山 政俊1、前元 利彦1、佐々 誠彦1 (1.大阪工大 ナノ材研)
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11:45 〜 12:00
〇曲 勇作1,2、増田 健太郎1、牧野 久雄1,2、古田 守1,2 (1.高知工大、2.高知工大総研)
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12:00 〜 12:15
〇髙橋 崇典1、宮永 良子1、藤井 茉美1、田中 淳2、竹知 和重2、田邉 浩2、Bermundo Juan Paolo1、石河 泰明1,3、浦岡 行治1 (1.奈良先端大、2.Tianma Japan、3.青山学院大)
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