Weiqi Zhou

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発表者・著者、共著者

2020年9月11日(金) 08:30 〜 11:15 Z10

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術

[11a-Z10-1~10] 13.3 絶縁膜技術

09:30 〜 09:45

▲ [11a-Z10-5] Study on Deposition Mechanism of SiOx Films Produced by Silicone Oil and Ozone Gas

〇(M2)Weiqi Zhou¹、Susumu Horita¹ (1.JAIST)