15:30 〜 15:45 [11p-Z23-11] ハードマスクを通したイオン注入によるa-Siへのp-nパターンの形成—パッシベーション性能の評価 〇Huynh ThiCam Tu1、山口 昇2、大平 圭介1 (1.JAIST、2.ULVAC)