一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.13 半導体光デバイス
12:30 〜 13:00
〇張 梓懿1,3、久志本 真希2、酒井 忠慶2、杉山 直治3、Schowalter Leo.J.4、笹岡 千秋3、天野 浩3 (1.旭化成、2.名大院工、3.名大未来材料・システム研究所、4.クリスタル・アイエス)
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13:00 〜 13:15
〇(M1)大石 和明1,2、石井 裕之2、張 文馨2、石井 寛仁1,2、遠藤 聡1、藤代 博記1、前田 辰郎1,2 (1.東理大、2.産総研)
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13:15 〜 13:30
〇宮川 晋輔1、後藤 和泰1、沓掛 健太朗2、黒川 康良1、宇佐美 徳隆1 (1.名大院工、2.理研AIP)
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13:30 〜 13:45
〇津幡 亮平1、後藤 和泰1、黒川 康良1、宇佐美 徳隆1 (1.名大院工)
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13:45 〜 14:00
〇中川 裕太1、後藤 和泰1、黒川 康良1、宇佐美 徳隆1 (1.名大院工)
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14:00 〜 14:15
〇羅 昊1、Van Hoang Nguyen1、後藤 和泰1、黒川 康良1、宇佐美 徳隆1 (1.名大院工)
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14:30 〜 14:45
〇(M1)黒岡 和起1、田中 文明1、本田 真也1、小室 有輝1、割ヶ谷 凌太1、森田 大樹1、内田 史朗1 (1.千葉工大)
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14:45 〜 15:00
〇(M1)割ヶ谷 凌太1、田中 文明1、小室 有輝1、黒岡 和起1、本田 真也1、内田 史朗1 (1.千葉工大)
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15:00 〜 15:15
〇(M1)渋谷 大河1、宇ノ木 寿仁1、押金 勇人1、武石 千宙1、谷口 和希1、陆 书龙2、内田 史朗1 (1.千葉工大工、2.蘇州ナノテク研)
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15:15 〜 15:30
〇(M1)青木 祐真1、武石 千宙1、田中 文明1、小室 有輝1、森田 大樹1、谷口 和希1、押金 勇人1、宇野木 寿人1、内田 史朗1 (1.千葉工大)
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15:30 〜 15:45
〇(M1)松岡 希海1、谷口 和希1、武石 千宙1、森田 大樹1、田中 文明1、内田 史朗1 (1.千葉工大)
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15:45 〜 16:00
〇大濱 寛士1、前田 幸治1、藤澤 剛2、今村 優希1、荒井 晶和1 (1.宮崎大工、2.北海道大)
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16:00 〜 16:15
〇荒井 昌和1、今村 優希1、日和田 健介1 (1.宮崎大工)
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16:15 〜 16:30
〇佐藤 光騎1、尾川 卓1、伊東 栄次1、小野 博信2、郷田 隼2 (1.信州大工、2.日本触媒)
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