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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[10p-Z05-1~19] 6.4 薄膜新材料

2020年9月10日(木) 12:30 〜 17:30 Z05

田中勝久(京大)、中村吉伸(東大)、村岡祐治(岡山大)

17:00 〜 17:15

△ [10p-Z05-18] 複合成膜により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜の光散乱特性(2)

〇(M1)若宮大生¹、松本繫治²、室谷裕志¹ (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)

キーワード：光学薄膜, 光散乱