[10p-Z09-1~20] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[10p-Z09-10] パルス光伝導法による非破壊界面順位密度測定技術の開発

〇山下 拓真¹、尾花 宏樹¹、久保田 弘¹、橋新 剛¹、吉岡 昌雄² (1.熊大院自、2.熊大)

キーワード：パルス光伝導法, 界面準位

近年、半導体デバイスの微細化が進み、その特性に影響を及ぼす界面準位の評価が重要になっている。現在の界面準位密度評価技術では、製造工程中の原因解析が困難な為、インライン可能な測定手法の確立が望まれている。本研究ではパルス光伝導法を用いた非破壊での界面順位評価を行う技術である。発表にて測定原理について詳細に説明する。