The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.2 Exploratory Materials, Physical Properties, Devices

[11a-Z01-1~11] 13.2 Exploratory Materials, Physical Properties, Devices

Fri. Sep 11, 2020 8:30 AM - 11:30 AM Z01

Takashi Suemasu(Univ. of Tsukuba), Kosuke Hara(Univ. of Yamanashi)

11:15 AM - 11:30 AM

[11a-Z01-11] Photosensitivity of Mg2Si PDs with Au/Mo and Au/Pt mesh-electrode

Yudai Ichikawa1, Daisuke Niioka1, Takeru Miyauchi1, Misa Yoshida2, Daiju Tsuya2, Haruhiko Udono1 (1.Ibaraki Univ., 2.NIMS)

Keywords:semiconductor, Mg2Si, photo diode

我々は n型 Mg2Si基板上に Agを熱拡散させることで pn接合フォトダイオー
ド( PD)を作製し、分光感度特性を報告してきた。前回、 p型拡散層と金属電極間の仕事関数差を考慮して電極を Tiから Niへ変えることで価電子帯にエネルギー障壁を生じず、受光感度が向上することを報告した。 Mg2Siの電子親和力から、 Moや Ptを用いることでも Ni同様に受光感度が向上すると考えられる。そこで今回、 Au/Moと Au/Ptのメッシュ状電極 PDを作製し、分光感度特性を評価したので報告する。