The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[11p-Z02-1~19] 15.4 III-V-group nitride crystals

Fri. Sep 11, 2020 1:00 PM - 6:15 PM Z02

Tsutomu Araki(Ritsumeikan Univ.), Shugo Nitta(Nagoya Univ.), Tomoyuki Tanikawa(Osaka Univ.)

5:30 PM - 5:45 PM

[11p-Z02-17] Study of high composition InGaN underlayer by facet growth

〇(M1)Naoya Nishi1, Kawamura Rei1, Kawamura Hiroshi1, Harada Yuya2, Tawarazako Yuya2, Okada Narihito1, Tadatomo Kazuyuki1 (1.Grad. School of Sci. & Eng. for Innovation, Yamaguchi Univ., 2.Department of Eng., Yamaguchi Univ.)

Keywords:InGaN, Under Layer, MOVPE

可視光InGaN系LEDは発光波長が長波長になるにつれ、LEDの発光効率は低下する。InGaN下地層を用いることで下地層と発光層の格子定数差は小さくなりミスフィット転位の減少や QCSE の低減等が期待される。我々はこれまでに、In組成2~3%のInGaN下地層上にMQWを成長し長波長化に成功したLEDを作製してきた。そこで、更なる長波長化を目指しIn組成10%を目標とした高組成のInGaN下地層の作製を試みたので報告する。