[11p-Z03-3~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[11p-Z03-11] PTFEをプラズマ原料とするプラズマエッチング

大久保 勇毅¹、高橋 桃世¹、北川 貴之¹、登尾 一幸¹、〇田口 貢士^1,2 (1.魁半導体、2.チェッカーズ)

キーワード：プラズマ, フッ素樹脂, エッチング

現在、SiやSiO₂のプラズマエッチングに有機フッ素化合物(PFC: Perfluorinated Conpounds)ガスが用いられている。しかし、これらは二酸化炭素に比べて温室効果が極めて高く使用量削減が求められている。よって、今回の研究ではPFCガスを用いず材料表面をプラズマエッチングする方法を開発した。