[11p-Z03-3~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[11p-Z03-12] Investigation of Radical Radiation Intensity Distribution and Photoresist Removal Rate Distribution in Microwave Excited Water Vapor Plasma

〇Takeshi Aizawa¹, Sakurai Tasuku¹, Ishijima Tatsuo¹, Tanaka Yasunori¹, Yusuke Nakano¹ (1.Kanazawa Univ.)

Keywords:ashing, microwave, optical emission spectroscopy

我々は，新規フォトレジスト除去の手法としてマイクロ波励起の水プラズマアッシング法の研究開発を進めている。本手法では，高速なレジスト除去およびイオン注入されたレジスト除去が可能である。しかし，本手法にはレジスト除去速度の面内均一性に課題がある。本報では，マイクロ波の変調条件を変更して，2次元発光分光計測によるラジカル発光強度の空間分布について検討し，アッシング均一性との関係を調査した。