[11p-Z03-3~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[11p-Z03-12] マイクロ波励起水蒸気プラズマにおけるラジカル発光強度分布とレジスト除去速度の面内分布の検討

〇相澤 洸¹、櫻井 匡¹、石島 達夫¹、田中 康規¹、中野 裕介¹ (1.金沢大自然)

キーワード：アッシング, マイクロ波, 発光分光計測

我々は，新規フォトレジスト除去の手法としてマイクロ波励起の水プラズマアッシング法の研究開発を進めている。本手法では，高速なレジスト除去およびイオン注入されたレジスト除去が可能である。しかし，本手法にはレジスト除去速度の面内均一性に課題がある。本報では，マイクロ波の変調条件を変更して，2次元発光分光計測によるラジカル発光強度の空間分布について検討し，アッシング均一性との関係を調査した。