2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/配線/集積化技術

[11p-Z09-1~15] 13.5 デバイス/配線/集積化技術

2020年9月11日(金) 12:45 〜 17:15 Z09

山端 元音(NTT物性研)、多田 宗弘(NEC)、遠藤 和彦(産総研)

13:30 〜 14:00

[11p-Z09-3] [(再講演)第11回シリコンテクノロジー分科会論文賞受賞記念講演] ナノスケール・シリコンにおける電子・電子散乱を利用したエレクトロン・アスピレーター

小野 行徳1,2、フィルダス ヒンマ2、渡邊 時暢1、堀 匡寛1,2、モラル ダニエル1,2、高橋 庸夫3、藤原 聡4 (1.静大電研、2.静大院創造、3.北大院情報、4.NTT物性基礎研)

キーワード:シリコン, トランジスタ, 電子・電子散乱

MOSトランジスタでは、電子の運動量とエネルギーはドレイン端で不可避的に散逸してしまい、このことがトランジスタの駆動力とエネルギー効率を律速する本質的な問題となっている。ここでは、このような原理的限界を打破するために、付加的な電源電圧なしにトランジスタ電流を増幅できる(駆動力を向上させることができる)ナノスケールMOSデバイス:エレクトロン・アスピレーターを提案し、その基本動作を実証した。