2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[11p-Z12-1~17] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2020年9月11日(金) 12:30 〜 17:15 Z12

鳥越 和尚(SUMCO)、前田 進(GWJ)、佐々木 拓生(量研機構)、須藤 治生(GWJ)

12:30 〜 12:45

[11p-Z12-1] シリコン単結晶成長におけるリン濃度分布の蒸発フラックス依存性

中野 智1、劉 鑫1、韓 学峰1、柿本 浩一1 (1.九大応力研)

キーワード:ドーパント, 一方向性凝固法, シミュレーション

シリコン結晶成長時に用いるドーパント不純物の代表として、リンが挙げられる。リンは偏析係数が小さいため、結晶中不純物濃度分布は不均一になる。不均一な濃度分布は抵抗率に大きな影響を及ぼす。本研究では、一方向性凝固法を用いたシリコン結晶成長過程において、ドーパント不純物としてリンを用いた場合、融液表面からのリンの蒸発を制御することで、結晶中リン濃度分布の均一化が可能かについて、数値計算を用いて検討した。