2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[11p-Z12-1~17] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2020年9月11日(金) 12:30 〜 17:15 Z12

鳥越 和尚(SUMCO)、前田 進(GWJ)、佐々木 拓生(量研機構)、須藤 治生(GWJ)

13:00 〜 13:15

[11p-Z12-3] 電子線照射発光活性化PL法におけるSi結晶中炭素の検出下限

佐竹 雄太1、田島 道夫2、朝原 将太1、小椋 厚志1,2 (1.明治大理工、2.再生可能エネルギー研究インスティテュート)

キーワード:フォトルミネッセンス, 検出下限, Si結晶中炭素

IGBT等のSiパワーデバイスの高性能化に伴ってSiウェーハの高品質化の妨げとなる微量残留炭素不純物の高感度・高精度の定量評価が要求されている.中でも発光活性化PL法が注目され,標準化が図られている.また,同手法の検出下限は標準化に向けて重要な情報である.そこで,本報告では,PL測定の積算時間・試料温度・励起光強度を変化させ,この手法の炭素濃度の検出下限を検討した.