2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.1 プラズマ生成・診断

[8a-Z04-1~15] 8.1 プラズマ生成・診断

2020年9月8日(火) 08:30 〜 12:30 Z04

中川 雄介(首都大)

09:15 〜 09:30

[8a-Z04-4] 二周波駆動低圧Ar/CH4プラズマ特性に及ぼす駆動周波数の影響の解析

木村 勇太1、小田 昭紀1 (1.千葉工業大学)

キーワード:プラズマCVD, 炭化水素プラズマ, シミュレーション

ダイヤモンドライクカーボン(Diamond-Like Carbon,以下DLC)膜DLC の成膜手法の一つとして,大面積かつ均一に処理できる利点からプラズマCVD 法が多く用いられているが,その堆積メカニズムには未解明な部分が多く,膜の特性を制御するまでには至っていない.そこで,本研究では二周波駆動Ar/CH4 容量結合型プラズマの空間一次元モデルを構築し,駆動周波数がプラズマ中の粒子組成や基板への入射フラックスに及ぼす影響について解析を行ったので報告する.