The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[8a-Z07-1~8] 6.3 Oxide electronics

Tue. Sep 8, 2020 9:15 AM - 11:30 AM Z07

Atsushi Tsukazaki(Tohoku Univ.)

11:15 AM - 11:30 AM

[8a-Z07-8] Thickness Dependence of Electronic and Crystal Structures in VO2 Ultrathin Films

Daisuke Shiga1,2, Billy Yang1, Naoto Hasegawa1, Tatsuhiko Kanda1, Ryosuke Tokunaga1, Kohei Yoshimatsu1, Ryu Yukawa2, Miho Kitamura2, Koji Horiba2, Hiroshi Kumigashira1,2 (1.IMRAM, Tohoku Univ., 2.IMSS, KEK)

Keywords:strongly correlated electron system, metal-insulator transition, photoelectron spectroscopy

VO2は室温付近で構造相転移を伴った急激な金属-絶縁体転移を示すことから、強相関デバイスとしての応用が期待されている。今回我々は、in situ放射光電子分光測定により、膜厚を制御したVO2/TiO2(001)薄膜の電子・結晶構造評価を行った。その結果、VO2薄膜は極薄極限ではルチル型構造を維持したモット絶縁体であることが明らかになった。