2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[8a-Z09-1~10] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

2020年9月8日(火) 09:00 〜 11:45 Z09

中村 芳明(阪大)、塩見 淳一郎(東大)

10:45 〜 11:00

[8a-Z09-7] 多層膜構造における表面フォノンポラリトンの熱伝導コンダクタンスの向上

立川 冴子1、オルドネスーミランダ ホセ2、ウー ユンフイ1、ジャラベール ロラン1,3、アヌフリエフ ロマン1、ヴォルツ セバスチャン1,3、野村 政宏1 (1.東大生研、2.Inst. Pprime, CNRS、3.LIMMS/CNRS-IIS)

キーワード:表面フォノンポラリトン, 熱伝導, 半導体材料

SiをSiO2で挟んだ3層構造において、SPhPによる熱伝導コンダクタンスを計算した。2枚のSiO2層で形成されたSPhPが、吸収をもたないSi層でカップリングするため、高い熱輸送特性が得られた。SiO2厚さが>150 nmのとき、3層構造におけるSPhPによる熱伝導コンダクタンスは、SiO2単一薄膜のそれより大きく、> 600 nmにおいては10倍以上大きくなることがわかった。本研究により、機械的に安定で、薄膜と同等あるいはそれ以上のSPhP熱伝導コンダクタンスを維持できる構造の設計指針を得た。