2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[8p-Z17-1~12] 6.1 強誘電体薄膜

2020年9月8日(火) 13:00 〜 16:15 Z17

山田 智明(名大)、中嶋 宇史(東理大)

14:15 〜 14:30

[8p-Z17-6] Si 基板上エピタキシャル(K, Na)NbO3薄膜の結晶構造および圧電特性の組成依存性

蔡 慶政1、譚 賡2、神野 伊策1 (1.神戸大工、2.大阪府立大)

キーワード:圧電薄膜, 非鉛

(K, Na)NbO3 (KNN) は,高い圧電性とキュリー点を示すことから,非鉛圧電薄膜材料の有力候補として注目されている.従来の研究より,高い圧電性を得るためには,結晶配向性および組成を最適化させる必要がある.我々はこれまでに,Si基板上にKNN薄膜をエピタキシャル成長させることに成功した.本研究では,K/Na組成の異なるKNN薄膜を作製し,その結晶構造および電気・圧電特性の評価を行った.