[8p-Z21-1~7] 8.1 Plasma production and diagnostics

[8p-Z21-1] Development of rotational RF magnetron sputtering system with new magnet arrangement for effective target utilization

〇(M1)Koya Yasuda¹, Yasunori Ohtsu¹ (1.Saga.Univ)

Keywords:plasma, spattering, target

プラズマによる薄膜合成技術の一つに, スパッタリング法がある。その中でも現在の主流として用いられているのが, マグネトロンスパッタリング法である。しかし, 従来のマグネトロンスパッタ装置のターゲット利用率は20~30%と低いことが課題である。
本研究では, 磁石回転方式を採用し, 新しい磁石配置を考案することで, ターゲット利用率を向上させることを目的としている。