[8p-Z21-1~7] 8.1 プラズマ生成・診断

[8p-Z21-1] ターゲット有効利用のための新規磁石配置による回転型高周波マグネトロンスパッタリング装置の開発

〇(M1)安田 洸也¹、大津 康徳¹ (1.佐賀大理工院)

キーワード：プラズマ, スパッタリング, ターゲット

プラズマによる薄膜合成技術の一つに, スパッタリング法がある。その中でも現在の主流として用いられているのが, マグネトロンスパッタリング法である。しかし, 従来のマグネトロンスパッタ装置のターゲット利用率は20~30%と低いことが課題である。
本研究では, 磁石回転方式を採用し, 新しい磁石配置を考案することで, ターゲット利用率を向上させることを目的としている。