[8p-Z25-1~13] 【CS.1】 Code-sharing Session of 2.4 & 7.5

[8p-Z25-1] Measurement of self-sputtering yield of high energy tungsten determined from thin film thickness measurement by RBS method

〇Sohei Nakagawa¹, Yasushi Hoshino², Daiji Kato³, Takuya Majima¹, Manabu Saito¹, Hidetsugu Tsuchida¹ (1.Kyoto Univ., 2.Kanagawa Univ., 3.NIFS)

Keywords:High-energy ion beam, RBS analysis, Self-sputtereing yield

薄膜試料を用いた高エネルギータングステンビームの自己スパッタリング収率をRBS法による膜厚測定から求めた。発表では、RBSスペクトルの解析において、高エネルギーイオン照射で問題となるイオン注入による膜厚増加や表面粗さの増大等を考慮した解析を中心に述べる。