[8p-Z25-1~13] 【CS.1】 2.4 加速器質量分析・加速器ビーム分析 と 7.5 イオンビーム一般のコードシェアセッション

[8p-Z25-1] RBS法による膜厚測定から求めた高エネルギータングステンの自己スパッタリング収率の測定

〇中川 創平¹、星野 靖²、加藤 太治³、間嶋 拓也¹、斉藤 学¹、土田 秀次¹ (1.京大院工、2.神奈川大理、3.核融合研)

キーワード：高エネルギーイオンビーム, RBS分析, 自己スパッタリング収率

薄膜試料を用いた高エネルギータングステンビームの自己スパッタリング収率をRBS法による膜厚測定から求めた。発表では、RBSスペクトルの解析において、高エネルギーイオン照射で問題となるイオン注入による膜厚増加や表面粗さの増大等を考慮した解析を中心に述べる。