[8p-Z25-1~13] 【CS.1】 Code-sharing Session of 2.4 & 7.5

△ [8p-Z25-3] Sputtering Yields of Ag and Au Nanoparticles bombarded with 3 to 100 keV Ar Ions

〇(M2)Hitomi Mizutani¹, Koichi Ozaki¹, Katsumi Takahiro¹, Fumitaka Nishiyama² (1.Kyoto Inst. Tech., 2.Hiroshima Univ.)

Keywords:ion beam, nanoparticle, sputtering

イオンビームを用いて深さ分析を行う二次イオン質量分析などで、ナノ構造体を対象とする際には、そのスパッタリング収率が不可欠な物理量となる。本研究では、基板上のAgおよびAuナノ粒子にAr⁺を照射し、そのスパッタリング収率を求めた。3–100 keV Ar⁺照射の結果、いずれのエネルギーでもナノ粒子におけるスパッタリング収率が最大1.5–2.0倍に増大した。講演では、スパッタリング収率の粒径およびエネルギー依存性について議論する。