[8p-Z25-1~13] 【CS.1】 2.4 加速器質量分析・加速器ビーム分析 と 7.5 イオンビーム一般のコードシェアセッション

△ [8p-Z25-3] Arイオン照射による金属ナノ粒子のスパッタリング収率

〇(M2)水谷 仁美¹、尾崎 孝一¹、高廣 克己¹、西山 文隆² (1.京工繊大、2.広大)

キーワード：イオンビーム, ナノ粒子, スパッタリング

イオンビームを用いて深さ分析を行う二次イオン質量分析などで、ナノ構造体を対象とする際には、そのスパッタリング収率が不可欠な物理量となる。本研究では、基板上のAgおよびAuナノ粒子にAr⁺を照射し、そのスパッタリング収率を求めた。3–100 keV Ar⁺照射の結果、いずれのエネルギーでもナノ粒子におけるスパッタリング収率が最大1.5–2.0倍に増大した。講演では、スパッタリング収率の粒径およびエネルギー依存性について議論する。