2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[8p-Z26-1~23] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2020年9月8日(火) 13:00 〜 19:30 Z26

本間 剛(長岡技科大)、斎藤 全(愛媛大)、後藤 民浩(群馬大)、吉田 憲充(岐阜大)

13:15 〜 13:30

[8p-Z26-2] 水素化a-SiへのFLAによるテクスチャ化ガラス上へのpoly-Si薄膜形成

王 崢1、Tu Huynh Thi Cam1、大平 圭介1 (1.北陸先端大)

キーワード:薄膜

RIEを用いて作製したテクスチャ基板上にCat-CVD法を用いてa-Si:Hを堆積した試料に対しFLAを行った際の膜剥離抑制を試みた。RIE時間の増大により、poly-Si膜の剥離が抑制できることを示した。また、FLA後の試料のラマンスペクトルにおいて、c-Siのピークが確認され、膜剥離無くpoly-Siを得られることを確認した。アンカー効果によりガラス基板とSi膜の密着性が高まったため、膜剥離が抑止できたと考えられる。