[8p-Z26-1~23] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[8p-Z26-20] 熱処理に伴うシリカガラスのOH濃度分布変化の表面OH濃度依存性

〇武田 築¹、葛生 伸¹、堀越 秀春² (1.福大工、2.東ソー・エスジーエム)

キーワード：非晶質材料, 拡散

シリカガラスを熱処理したとき，表面からのOH基出入およびシリカガラス内部のOH基の拡散によってOH濃度分布が決まる。我々はシリカガラスを熱処理した時のOH濃度分布から拡散の解析を試みた。てはじめに，OH含有を真空中で熱処理したサンプルを解析することにした。実験データの解析に先立ち，このときのOH濃度分布の表面OH濃度依存性を理論的に求めた。