2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[8p-Z26-1~23] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2020年9月8日(火) 13:00 〜 19:30 Z26

本間 剛(長岡技科大)、斎藤 全(愛媛大)、後藤 民浩(群馬大)、吉田 憲充(岐阜大)

19:00 〜 19:15

[8p-Z26-22] 無共溶媒ゾル–ゲル法による長可使時間シリカ成膜溶液の開発と薄膜合成

梶原 浩一1、蛭田 圭一1、金村 聖志1 (1.都立大)

キーワード:シリカ薄膜, 無共溶媒ゾル-ゲル法, 長可使時間成膜溶液

非晶質シリカ薄膜は、液体を原料とするゾル–ゲル法により、ケイ素アルコキシドに加水分解と重縮合を施した溶液から容易に合成できる。しかし、溶液は重縮合の進行によって増粘しやすく、長期保存や繰り返し利用への関心は薄かった。今回、必須原料である4 官能ケイ素アルコキシドと水からの長可使時間ゾル–ゲル成膜溶液の開発と、この溶液によるシリカ薄膜の無共溶媒合成について報告する。