[9a-Z05-1~8] 6.4 薄膜新材料

[9a-Z05-1] NdF₃薄膜を用いた真空紫外センサの真空アニールによる暗電流値制御

〇堀内 勇佑¹、加藤 誠也¹、加藤 智規¹、加瀬 征彦²、小野 晋吾¹ (1.名工大、2.ウシオ電機)

キーワード：薄膜, パルスレーザー堆積法, フッ化物

パルスレーザー堆積法によりNdF₃薄膜を作成し、NdF₃薄膜の光伝導型検出器における真空アニール処理による暗電流値の制御を評価した。アニール温度による影響、アニール時間による影響それぞれに関する実験を行い、暗電流値の変化とその要因であるアニールによる薄膜の組成変化について発表する。