[9a-Z10-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[9a-Z10-7] Development of Minimal laser hydrogen annealing tool to flatten the surface

〇kazushige sato^1,4, Takashi Chiba^1,4, Masao Terada^1,4, Kengo Hamada^1,4, Yoshiyuki Nakayama³, Yoshiaki Kanamori³, Hiroyuki Tanaka², Masashi Kase², Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.MINIMAL, 2.AIST, 3.Tohoku Univ., 4.Sakaguchi E.H VOC Corp.)

Keywords:Minimal Fab, Laser Heating

表面形状処理のため、高速昇降温が可能なレーザ加熱を使ったミニマルレーザ水素アニール装置を開発中で、その試作機が完成し基本特性を確認したので報告する。