The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.3 Plasma nanotechnology

[9p-Z21-1~10] 8.3 Plasma nanotechnology

Wed. Sep 9, 2020 1:30 PM - 4:15 PM Z21

Hiroki Kondo(Nagoya University), Giichiro Uchida(Meijo Univ)

1:45 PM - 2:00 PM

[9p-Z21-2] Control of the Water-repellent by changing Nano-pillar Array Structures Fabricated by Bio-template Ultimate Etching

〇(M1)Sou Takeuchi1, Daisuke Ohori1,2,7, Teruhisa Ishida3, Masahiro Sota3, Yoshiyuki Nozawa4, Mikio Kadoi5, Kazuhiko Endo1,6, Seiji Samukawa1,6,7 (1.IFS, Tohoku Univ., 2.NCTU, 3.NAGASE & CO.,LTD., 4.SPT Co., 5.LTJ Corp, 6.AIST, 7.AIMR, Tohoku Univ.)

Keywords:Hydrophobicity, Quartz nano-pillar structure, Neutral Beam Etching

センサ(ミリ波レーダー)やカメラ表面への防滴・防汚の実現は非常に期待されており、固体表面の微細構造を用いることで高い撥水性を示すことが広く知られている。しかしながら、レーダーやカメラのレンズで使用されるガラスは親水性であることから、撥水性の発現が困難とされている。そこで、本研究では間隔を制御させた石英ナノピラー (NP)構造を作製することで撥水性を実現し、その濡れ性のメカニズムを議論した。