The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.3 Plasma nanotechnology

[9p-Z21-1~10] 8.3 Plasma nanotechnology

Wed. Sep 9, 2020 1:30 PM - 4:15 PM Z21

Hiroki Kondo(Nagoya University), Giichiro Uchida(Meijo Univ)

2:15 PM - 2:30 PM

[9p-Z21-4] Wall to wall distance dependence of carbon nanowalls for surface-assisted laser desorption/ionization mass spectrometry

Ryusei Sakai1, Hiroki Kondo2, Kenji Ishikawa2, Naohiro Shimizu2, Takayuki Ohta3, Mineo Hiramatsu3, Masaru Hori2 (1.Nagoya Univ. Eng., 2.Nagoya Univ. Ctr. Low Temp. Plasma, 3.Meijo Univ.)

Keywords:carbon nanowall, carbon, surface-assisted laser desorption/ionization mass spectrometry

表面支援レーザー脱離/イオン化質量分析法(SALDI-MS)による生体分子分析のための表面支援材料として、垂直配向成長グラフェン“カーボンナノウォール(CNWs)”に着目し、同表面でのイオン化機構を解明した。密度が異なるCNWs間での比較により、より高密度なCNWsにおいて高効率なイオン化性能が得られた。これはCNWs先端の高密度なグラフェンエッジにおける電界集中によるイオン化促進を示唆している。